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稀土镧对电镀金刚石工具性能的影响

以普通亮镍镀液为基础,分别制备亮镍和镍镧镀层表面及截面试样,用显微硬度计观察表面、断面组织并测定硬度,随着镧含量的增加,镀层硬度发生变化,当LaCl3·7H2O达到5g/L时,镀层硬度最高为475HV,比亮镍镀层高 77HV。在万能外圆磨床上进行内圆磨削试验,计算金刚石工具的磨削比,比较了稀土改善亮镍镀层的能力,添加镧的亮镍镀层工具胎体耐磨性提高,因此工具的使用效率得到提高。研究结果表明,在镀液中添加稀土可以提高亮镍镀层的硬度和金刚石工具的磨削比。

  • 2022-01-28
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人造金刚石表面化学镀镍工艺

采用以次亚磷酸钠为还原剂的酸性化学镀镍液对人造金刚石进行表面镀覆。用扫描电镜及能谱分析表征金刚石表面镀镍前后的形貌和物相;用金刚石单颗粒抗压强度测定仪测试镀镍前后单颗金刚石的抗压强度。结果表明:通过化学镀镍的方法得到的样品,不仅存在C、Ni元素,还有P及微量的O和Cl元素。在镀层较薄的前提下,金刚石化学镀镍前后的平均单颗粒抗压强度没有明显的变化,漏镀现象越明显,抗压强度越不均匀。

  • 2022-01-28
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金属结合剂金刚石砂轮制造技术新发展

提高砂轮寿命和磨削效率是金属结合剂金刚石砂轮制造研究的关键问题。本文综述了金属结合剂对金刚石磨料把持能力增强、砂轮修整修锐能力改善两方面的进展,介绍了高温钎焊技术应用与砂轮地貌优化研究的成果,在分析现有技术缺陷的基础上,提出了以高温钎焊技术为核心结合砂轮设计思想的创新制造金属结合剂超硬磨料砂轮换代产品的思路和构想。

  • 2022-01-28
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自锐性金刚石磨料的特征及研制

用于制造树脂结合剂磨具的金刚石磨料,传统产品为单晶颗粒,大多数(70%以上)为针片状,表面光滑,与结合剂结合不牢,磨削过程中过早脱落,使用效果不理想。本文目的就是为了解决这一问题。本项目以粉状石墨为原料,以铁基合金粉末为触媒,对原料的成份和配比、合成块的组装结构、合成工艺参数及调控方式,进行了系统的试验研究,在六面顶压机上,研制出了一种金刚石磨料新产品——CSD(Crumb Structure Diamond)磨料。合成压力和电功率与合成单晶金刚石的工艺参数基本相同,而合成时间较短,不超过5min,石墨转化率达到80%左右。得到的新产品不是针片状单晶颗粒,而是团粒结构的颗粒,颗粒形状为等积形,表面粗糙,凹凸不平。经制作成砂轮使用证明,金刚石与结合剂结合牢固,在磨削过程中呈微刃破碎,自锐性好,磨削锋利,寿命比传统产品成倍提高。CSD磨料可作为RVD金刚石磨料的更新换代产品使用。

  • 2022-01-28
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金刚石复合片ELID精密磨削工艺及机理研究

金刚石复合片由金刚石微粉层、结合剂过渡层和硬质合金层三部分组成。将金刚石微粉和硬质合金基片在超高压(5-7GPa)、高温(1400-1700℃)条件下烧结,使得金刚石复合片具有高硬度、高耐磨性、导热性、强度特性和抗冲击的韧性,在切削刀具、专用钻头、特殊耐磨工具领域具有很高的应用价值。

  • 2022-01-28
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5G无源室分场景下的分布式MIMO研究与应用

5G时代,绝大部分的应用将发生在室内场景,室内覆盖将是5G深度覆盖和容量吸收的重要手段,而5G信号穿透墙体更加困难,室内将更加依赖室分覆盖。目前绝大部分普通楼宇、隧道等场景的覆盖普遍选择成本较低、速率和容量受限的传统无源室分,为了提升无源室分的速率和容量,针对5G分布式MIMO做了深入的研究和应用,对推动5G低成本无源室分的建设有着重要意义。

  • 2022-01-28
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6G通感融合的愿景及典型技术探讨

通感融合是6G中一个较为突出的技术方向,它通过平衡通信和感知的需求,在继承现有网络架构或重构网络架构的基础上,实现通信和感知的一体化、设备能力的多样化和节能化。对6G通感融合的应用场景、愿景和典型技术进行探讨和分析。首先,从2个维度介绍6G通感融合的应用场景;然后,阐述6G通感融合的愿景及其典型技术;最后,对6G通感融合的发展趋势进行总结。

  • 2022-01-28
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单晶碳化硅晶片高效超精密抛光工艺

目前,国内外学者研究了许多碳化硅衬底平坦化技术,如机械研磨[1-2]、磁流变抛光[3]、离子束抛光[4-5]、化学机械抛光[6-7] 等. 为了获得一定的形状,一般采用数控研抛技术对碳化硅反射镜进行研磨,其材料去除机理为机械破碎去除,会对工件造成一定的微损伤[1-2]. 王芳杰等[3]进行 6H-SiC 单晶片的磁流变抛光工艺实验,最终获得的加工表面粗糙度 Ra 为 0. 5 nm,亚表面破坏层深度为 1. 5 nm. Deng 等[4-5]提出等离子体辅助抛光单晶碳化硅的方法,借助大气压下水蒸气等离子体辐射进行表面改性并使用 CeO2磨料抛光,获得无损伤和原子级平坦化的碳化硅表面,但抛光前需要对表面进行适当的改性处理. Chen 等[6]采用硅溶胶对机械研磨后的碳化硅衬底进行化学机械抛光,获得表面粗糙度 RMS0.096 nm 的超光滑表面.

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