铜基钎料真空钎焊金刚石的知识汇总

采用铜基合金钎料，适当控制钎焊工艺，实现了金刚石与钢基体的高强度连接。借助扫描电镜（SEM）、X射线能谱（EDS）、X射线衍射（XRD）分析了真空加热条件下，对铜基合金钎料与金刚石之间的界面反应，钎焊面进行了表面形貌和结构分析。探讨了钎料与金刚石界面处碳化物的形成机理。阐明了在钎焊过程中Ti元素在金刚石界面形成富Ti层并与金刚石表面的C元素反应生成TiC、SnTiC是实现合金层与金刚石有较高结合强度的主要因素。钎料与钢基体在钎焊温度下发生组元间相互扩散，形成了固溶体及其化合物，从而实现钎料与钢基体的高强度结合，并对一系列铜基钎料进行了测试。

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Ni-P金刚石化学复合镀层的耐磨性

研究了Ni-P镀层、Ni-P-纳米金刚石及Ni-P-微米金刚石复合镀层在不同的热处理温度、载荷及金刚石含量下的耐磨性，并分析了复合镀层提高基质金属耐磨性的机理。结果表明：三种镀层的磨损量均随着热处理温度的提高而下降，并在400℃时达到最小值；载荷增加，磨损量增大，在不同热处理温度及载荷下，Ni-P-微米金刚石复合镀层均显示出最好的耐磨性。当微米金刚石加入量在4～8g/L时，镀层的耐磨性最好。复合镀层提高耐磨性的原因在于复合粒子在基质金属表面形成突起，起到了支撑载荷、避免粘着磨损及减小摩擦系数的作用。

2022-01-29
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金刚石的晶体质量评定探究

分别选用辽宁瓦房店原生矿产出金刚石、湖南砂矿产出金刚石、CVD合成金刚石、高温高压合成金刚石各1颗，采用红外光谱、高分辨率X射线衍射、拉曼光谱和正交偏光显微观察的分析方法，对其晶体质量进行了研究。通过比较金刚石1332.5cm-1 拉曼本征峰的实际位移与理论位移，四颗金刚石均存在一定的内应力，高温高压合成金刚石的内应力小于其它三颗金刚石；金刚石拉曼本征峰的半高宽比对表明，四颗金刚石均存在较多晶格缺陷，其中湖南砂矿产出金刚石缺陷明显；采用双轴晶ω扫描方式测试了四颗金刚石｛004｝面的摇摆曲线，并估算其晶面族的晶面间距，结果显示高温高压合成金刚石｛004｝面的晶面间距大于其它三颗金刚石，可能是因孤氮所致；由金刚石摇摆曲线半高宽计算出内部平均位错密度值表明，高温高压合成金刚石最低，而瓦房店产出的金刚石内部平均位错密度最大，且含有亚晶界，这一结果与其异常双折射现象一致。

2022-01-29
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金刚石晶体生长研究进展

介绍利用高温高压（HPHT）合成高质量金刚石单晶和化学气相沉积法（CVD）制备金刚石薄膜的设备、方法、工艺参数以及热丝CVD和微波等离子体CVD的优缺点；P型和N型金刚石掺杂研制现状。重点介绍N型金刚石掺杂的困难，氮、锂、钠、磷、硫等杂质的掺杂效果，共掺杂对于金刚石薄膜的影响，以及近年来P型和N型掺杂取得的成果。

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陶瓷结合剂cBN高速砂轮受力分析

　陶瓷结合剂cBN砂轮工作速度一般在80m/s以上，为了保证砂轮的安全运行，砂轮本身必须具备一定的强度。文章分别探讨了陶瓷基体和铝合金基体的cBN砂轮，并进行了空转状态下的受力分析，分析结果表明,陶瓷基体在80m/s的工作条件下，很难满足要求，铝合金基体能有效提高砂轮的工作速度，降低对工作层的强度要求。

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超声波在电镀金刚石钻头工艺中的应用与研究

在常规电镀液中引入超声波技术，通过超声波电镀金刚石钻头与普通电镀金刚石钻头在制造周期、镀层表面形貌、镀层显微硬度及综合钻进性能的对比表明：超声波电镀金刚石钻头的制造周期缩短近50%、镀层的显微硬度提高近100%；同时，超声波电镀金刚石钻头的综合钻进性能也增强了近25%，产品有巨大的市场价值和良好的应用前景。

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未来超硬材料磨具应向“五超”方向发展

未来超硬材料磨具应向高速、高效、高精密方向发展。郑州磨料磨具磨削研究所在超高速陶瓷CBN砂轮制品的关键技术方面取得了突破性进展。自主研发产的高强陶瓷结合剂及其制备技术，产品满足使用速度达到160m/s的超高速磨削加工更要求，实现了精密成型磨削用砂轮不同部位的均匀磨损；开展了新型高性能结合剂、超硬磨料的优选、砂轮制造工艺及检测技术、磨削试验等研究，研究了曲轴、凸轮轴高速、超高速磨削用陶瓷结合剂CBN砂轮和树脂/金属复合结合剂金刚石砂轮，并实现了工程化应用；在高强陶瓷结合剂、树脂/金属复合技术等方面突破了多项关键技术，取得了一批创新技术成果。产品已替代进口同类产品，其技术成果达到了国内领先水平。

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聚晶立方氮化硼材料的性能及其应用

立方氮化硼材料是1957年由美国通用电器公司首次人工合成的新型无机材料，是继人造金刚石问世之后人工合成的硬度仅次于金刚石的超硬材料。它具有高的硬度、热稳定性和化学惰性，以及良好的透红外性等优异性能，因此对合成立方氮化硼的研究已成为材料研究领域的一个热点。目前合成立方氮化硼材料的主要方法有高温高压法、气相沉积法、水热法等。高温高压法是传统的在高温高压下利用立方氮化硼的热稳定区合成立方氮化硼的方法；气相沉积法和水热法则是在低温低压下进行。气相沉积是一种利用CVD方法合成CBN膜的技术；水热法是在低温低压条件下在水溶液中利用反应耦合效应合成立方氮化硼微晶的方法，这种情况下合成的是纳米级的立方氮化硼晶体材料，应用领域具有局限性，并且该项技术目前的发展还不成熟。由于高温高压合成立方氮化硼材料的技术相对发展已经成熟完善，目前国内外仍然主要采用这种方法合成立方氮化硼材料。

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