采用冷等静压CIP（ColdIsostatic Pressing）工艺生产的各向同性石墨具有高强度、低消耗、结构细密和理化特性均匀等特性，与天然石墨相比，其颗粒没有择优取向，强度和导电各向等性、组织均匀颗粒微细致密强度高，其应用实例见图1，应用领域包括：①可承受超过1000℃（1800℉）的高温和高腐蚀环境的DSS（定向凝固）或VGF（垂直梯度凝固）工艺多晶铸锭炉配套热场（细颗粒石墨制成加热器、底板和侧板部件）；②太阳能高纯度单晶硅、锗和III/V族化合物单晶直拉单晶制造（CZ法）装置（包括加热器、三瓣坩埚、炉底护盘等石墨材质零配件）；③硅电池片生产过程：镀抗反射涂层膜等离子气相沉积（PECVD）耐高温、高强度、导热性好载体石墨舟和模具电火花放电加工EDM（Electron Discharge Machining）电极；④航空航天、陶瓷、冶金、热处理高温炉、机械密封用玻璃及石英工业和核工业、有色及贵金属工业等领域，并逐渐由一般产业机械领域扩展到电气、电子学、尖端技术、运输机械、高新科技领域，主要用途见图1。
