高性能薄膜制备利器——脉冲激光沉积技术

伴随脉冲激光技术的快速发展,脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)制备高性能薄膜已成为研究热点。由于脉冲激光具有高能量密度以及短脉宽,烧蚀靶材时会溅射出大量复杂的微纳粒子并形成等离子体,等离子体在真空或环境气体中经过定向膨胀后到达基底,在基底上形成产物,因此利用PLD技术可在基底上沉积特定成分和微纳结构的薄膜。

  • 2022-01-27
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